超薄AAO膜移植
超薄AAO模板，可以移植到任何基底表面，作为掩膜用于刻蚀形成纳米孔阵列，或沉积掩膜形成纳米点阵列，实验室显微照片；纳米压印等。我们早在2005年就实现了有序超薄AAO膜的移植(G. Q. Ding, et al., Fabrication of Controllable Free-standing Ultrathin Porous Alumina Membranes, Nanotechnology 16 (2005) 1285).

基底选择：目前已经在Si,SiO2/Si,ITO,glass,Cu, HOPG等基底上实现。基底一般由客户准备和处理。高分子基底需要特殊处理，价格稍贵。

超薄移植AAO膜（面积S≥1cm2，客户提供衬底）

备注：半成品为此价格0.6倍，会提供后续制备方案，详询客服

标准产品规格：AAO-FS-01/02 孔径30纳米，孔间距65纳米，厚度200-400纳米，双通，面积大于等于1cm*1cm

应用案例

沉积硅纳米点阵列，图片来源于G. Q. Ding, M. J. Zheng, W. L. Xu, W. Z. Shen, Fabrication of Nanocrystalline Si:H Nanodot Arrays with Controllable Porous Alumina Membranes, Thin Solid Films 508 (2006) 182.

制备Ge纳米点阵列，图片来源于：

Yourui Huangfu, Wenbo Zhan, Xia Hong, Xu Fang, Guqiao Ding and Hui Ye, Optimal growth of Ge-rich islands on Si (001) substrates with hexagonal packed pit patterns, Nanotechnology, 24 (2013) 035302.

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