产品: CVD二硫化钨薄膜:WS2 单层连续薄膜
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详细介绍
制造方法:
化学气相沉积法, Chemical Vapor Deposition (CVD)
产品简介:
WS2薄膜分为多种:
1) 单层离散分布的三角状单晶晶粒,三角边长一般是几十至一百微米。
2) 由三角晶粒继续长大连在一起的单层连续薄膜。
3) 多层WS2 连续薄膜。
4) 基底:WS2可选基底较多,其中蓝宝石基底为直接沉积产品。其他基底例如:SiO2/Si, 硅片,PET,PI,ITO,FTO,玻璃,金属基底等是通过在蓝宝石上生长后转移至客户所需基底。
应用领域:
光电器件,微电子器件,生物传感,化学传感等领域。
包装及规格
10*10mm,15*15mm,20*20mm,2英寸圆片,4英寸圆片 或客户指定的定制尺寸。
净化抽真空包装, 1片/盒,5片/盒。10片/盒。
单面抛光蓝宝石基底WS2
双面抛光蓝宝石基底WS2
单层WS2孤立晶粒
单层WS2连续薄膜
单双层混合WS2,详情咨询 sales@6carbon.com
蓝宝石基底单层WS2 (4英寸)
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