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4英寸氮化镓厚膜晶片(Si掺杂)

编号:BK2020081711
CAS号:
价格: ¥5160
货号:BK2020081711-02
规格:

数 量:


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详细介绍

 


性能参数:

  • 产品型号 GaN-T-C-N-C100
    尺寸 Ф 100 ± 0.1 mm
    厚度 4.5±0.5 μm, 20±2 μm
    晶体取向 C-plane(0001) ± 0.5°
    导电类型 N-type(Si-doped)
    电阻率(300 K) < 0.05Ω·cm
    载流子浓度 >  1x1018cm-3
    迁移率 ~ 200cm2/V•s
    位错密度 Less than 5x108 cm-2(estimated by FWHMs of XRD)
    衬底结构 GaN on sapphire (standard :SSP option:DSP)
    有效面积 >90%
    包装 Packaged in a class 100 clean room environment, in cassette of 25pcs
    or single container , under a nitrogen atmosphere.


  • 扫描图:




温馨提示:北京北科新材科技有限供应产品仅用于科研,不能用于人体。网站图片源自互联网,图片仅供参考,请以实物为准,如有侵权请联系我们立即删除。产品参数仅供参考,请以实际值为准!

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