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二维材料Fronrier
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目前,制造具有化学和结构稳定性的本征多孔材料仍然是一个挑战。传统上,动态化学被认为是形成均匀的多孔有机骨架所必需的,但是动态键会限制这些材料的稳定性。与传统的多孔框架相比,全碳连接的框架材料有望表现出更高的稳定性。然而,碳-碳键形成反应的可逆性有限,在均匀性方面难以实现,限制了对这些材料的广泛研究。尤其是合成全碳骨架的均匀膜更具挑战性。
此工作通过反应动力学调控,合成了两例(PAF-1和BCMP-2)具有纳米精确厚度可调的全碳连接的3D多孔芳族框架膜。方法为(图1):首先通过自组装表面连接法将PAF反应基团预先置于基板上(第一步:基板修饰)之后控制低浓度的PAF原料液连续流经基板表面从而引入原料单体(第二步:缓慢均匀生长),可以实现生长厚度可控光滑且连续的PAF膜。这种方法更有利于生长为薄膜而非块状粉末。作者用石英晶体微天平(QCM)实时监测薄膜生长,用扫描电子显微镜(SEM)横截面成像将QCM信号与薄膜厚度关联起来,从而实现纳米厚度控制。
图1 PAF膜的合成示意图
【PAF膜合成】
【1.反应动力学】实现在空间上操控聚合反应过程是制备均匀框架材料薄膜的关键。然而,由于C-C共价键具有不可逆性,一旦反应完成难以再进行控制。因此,我们认为在反应引发阶段形成结构规则的前驱体对于合成一种光滑、均匀的薄膜是必要的。另一反面,框架聚合反应也可能发生在溶液中而导致存在聚集体从而污染薄膜。换句话说,完整均匀膜的合成挑战在于限制粉末在均相中成核生长,同时促进薄膜的均匀、逐层异相生长。
溶液中两种物质(无论是单体还是低聚物)之间的反应速率将遵循单体浓度的二级动力学。相比之下,当单体与表面偶联时,其中一种反应物(在表面)的浓度是固定的,因此可以预期遵守准一级动力学。因此,单体-单体和单体-表面反应的相关速率方程如下:
反应动力学的这种差异表明,在高浓度下,单体反应倾向于主要生成低聚物,随之在一定的临界尺寸下,低聚物会从溶液中析出形成粉末,这对成膜是不利的。当降低浓度时,与表面生长(2)相比,本体反应(1)将减少。因此,在一定的低浓度阈值下,表面成膜反应将占主导地位,此状态认为这是合成均匀C-C键合骨架膜的理想条件。
【2.合成方法】当通过自下而上的方法制备均匀薄膜时,基板和第一层框架薄膜之间的吸附是必要的。由于-SH在金表面会发生定向扩散,使得其在金表明可能形成均匀自组装单层膜(SAM),之后若该-SH分子在对位处进行溴官能化(4-bromothiophenol ),从而允许PAF-1的单体(TBPM)与之发生Yamamoto偶联反应。最后完全硫醇功能化的SAM与适当数量的TBPM反应生成一个单层PAF,作为后续PAF膜形成的模板。为了实现此设想,需要满足(1) 限制单体的稳态浓度,本实验中使用先前报道的合成PAF-1浓度的1%;(2)使用连续流动条件,在整个反应过程中提供源源不断的单体,从而限制粉末聚集。为此作者建立了一个基于三个可编程的注射泵、一个混合单元和一个石英晶体微天平(QCM)流动单元的流动反应体系。
图2显示了使用bulk或flow条件下合成的薄膜的电镜图。在bulk合成条件下,薄膜非常粗糙(图2a),而上述方法合成的薄膜如图2b所示,得到连续和光滑的膜。2c为用无溴的thiophenol作为SAM的结果,得到的薄膜断层明显。2d为10倍浓度单体下的结果,可发现薄膜上沉淀物明显。这些实验表明,要形成均匀的骨架膜,需要同时满足表面连接、低浓度和流动条件。
图2 不同合成条件下的薄膜电镜图
【PAM膜厚度调控】
为了实时监测框架膜的形成,采用了石英晶体微天平QCM技术。其中频移与薄膜厚度直接相关,频移斜率与薄膜表面的反应速率有关。发现当降低流速时,初始边界层厚度增加,溶剂合单体进入PAF中扩散速度降低,将导致生长速率降低,最终结果导致膜反而会变薄。因此,通过控制单体的进入速率,可以制备出厚度可控的光滑多孔三维PAF膜。小编注:正文中作者未深入探讨不同厚度膜的具体如何改变实验条件调控,由于撰稿之日jacs期刊还未更新SI,所以具体细节未知。
图3 膜厚度的监测
【PAF膜表征】
为了表征金基片表面形成的薄膜的化学成分,作者测量了XPS与SEM元素分布,如图4。结果显而易见,证明合成的是全碳连接的均匀PAF膜,这里暂且不表。另外,作为此成膜方法的扩展,作者也合成了另外一种PAF膜BCMP-2,证明了此方法具有通用性。
图4 PAF膜的元素表征
【结论】
作者从基本的化学反应动力学原理出发,探讨并实现了合成具有纳米级精确厚度可控的三维PAF连续光滑薄膜的方法。相信这种方法将对今后合成各种类型COF、MOF等框架化合物膜具有很大的指导意义!!!
注:小编水平有限,如有不足敬请指正,不胜感激!
原文链接:https://doi.org/10.1021/jacs.9b10884
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